Die Forschung hat gezeigt, daß durch Point-of-use Gasreinigung eine gleichbleibende und reproduzierbare Prozeßleistung für die Herstellung von Halbleiterbauelementen sichergestellt wird. Die Gasreinigung isoliert kritische Prozeßabschnitte von Gasversorgungssystemen und schützt vor Schwankungen in der Gasreinheit und Cross-Kontamination.

Der MonoTorr Phase I 3000 reinigt Stickstoff und Edelgase mit Durchflußmengen bis zu 5 slpm. Das Ganzmetall-Gettermaterial entfernt Verunreinigungen bis auf < 1 ppb (siehe Tabelle).

• EP 316L Oberflächen
• Kontrolleinheit mit akustischer Alarmanzeige
• 0,003 µm Ganzmetall-Partikelfilter
• Austauschbare Getterpatrone